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锗单晶生长炉KX100-Ge

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  • 最优化的4-8英寸CZ法锗单晶生长方案
  • 领先的全数字控制系统
  • 先进的热场设计
  • 国际上锗晶体生长公司的首选
  • 锗单晶生长炉KX100-Ge
    Performance  性能
      Typical Ingot Diameter 单晶直径
      100-200 mm(4-8")
      Pull Chamber Height 副室高度
      1750 mm (69”)
      Throat Diameter 喉口直径
      305 mm (12”)
      Furnace Diameter 炉室内径
      865 mm
      Seed Lift Rate 籽晶提升速率
      0-508 mm/hr
      Seed Jog Speed (Nominal) 籽晶快速提升速率(最大)
      508 mm/min
      Total Crucible Travel 坩锅最大行程
      380 mm (15")
      Crucible Lift Rate 坩锅提升速率
      0-254 mm/hr
      Crucible Jog Speed (Nominal)  坩锅快速提升速率(最大)
      50.8 mm/min
      Seed Rotation (Reversible) 籽晶旋转速率(可逆)
      0-50 rpm
      Crucible Rotation (Reversible)  坩锅旋转速率(可逆)
      0-20 rpm

    Silicon Charge Capacity硅投料量
      Hot zones are available to fit the following crucible sizes. 热场尺寸取决于坩锅直径
      Crucible Diameter
      坩锅直径
      Crucible Height
      坩锅高度
      Charge Size
      投料量
      20.0 in
      15.0 in
      120 kg
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